书目信息 |
题名: |
微机电系统(MEMS)制造技术
|
|
作者: | 乔大勇 , 苑伟政 著 | |
分册: | ||
出版信息: | 北京 科学出版社 2014 |
|
页数: | 240页 | |
开本: | 25cm | |
丛书名: | 微纳制造的基础研究学术著作丛书 | |
单 册: | ||
中图分类: | TM380.5 | |
科图分类: | ||
主题词: | 微机电--生产工艺 | |
电子资源: | ||
ISBN: | 978-7-03-039974-8 |
000 | 01060nam0 2200265 450 | |
001 | 1463324610 | |
005 | 20140923173822.57 | |
010 | @a978-7-03-039974-8@b精装@dCNY88.00 | |
049 | @aA330000ZJL@bUCS01006528459@c006528459 | |
100 | @a20140412d2014 em y0chiy0110 ea | |
101 | 0 | @achi |
102 | @aCN@b110000 | |
105 | @aa z 001yy | |
200 | 1 | @a微机电系统(MEMS)制造技术@9wei ji dian xi tong(MEMS)zhi zao ji shu@b专著@f苑伟政,乔大勇著 |
210 | @a北京@c科学出版社@d2014 | |
215 | @a240页@c图@d25cm | |
225 | 1 | @a微纳制造的基础研究学术著作丛书@f卢秉恒主编 |
300 | @a国家科学技术学术著作出版基金资助出版 | |
330 | @a本书共9章,分别介绍了MEMS制造技术发展历程和发展趋势、MEMS制造材料基础、MEMS制造中的沾污及洁净技术、MEMS制造中的图形转移技术、湿法腐蚀与干法刻蚀技术、氧化扩散与注入、薄膜制备技术、MEMS标准工艺和MEMS封装技术。 | |
606 | 0 | @a微机电@x生产工艺 |
690 | @aTM380.5@v5 | |
701 | 0 | @a乔大勇@9qiao da yong@f(1977-)@4著 |
701 | 0 | @a苑伟政@9yuan wei zheng@f(1961-)@4著 |
801 | 0 | @aCN@bZL@c20140412 |
905 | @a241250@dTM380.5@e1 | |
微机电系统(MEMS)制造技术/苑伟政,乔大勇著.-北京:科学出版社,2014 |
240页:图;25cm.-(微纳制造的基础研究学术著作丛书/卢秉恒主编) |
国家科学技术学术著作出版基金资助出版 |
ISBN 978-7-03-039974-8(精装):CNY88.00 |
本书共9章,分别介绍了MEMS制造技术发展历程和发展趋势、MEMS制造材料基础、MEMS制造中的沾污及洁净技术、MEMS制造中的图形转移技术、湿法腐蚀与干法刻蚀技术、氧化扩散与注入、薄膜制备技术、MEMS标准工艺和MEMS封装技术。 |
● |
相关链接 |
正题名:微机电系统(MEMS)制造技术
索取号:TM380.5/1
 
预约/预借
序号 | 登录号 | 条形码 | 馆藏地/架位号 | 状态 | 备注 |
1 | 1534851 | 215348513 | 样本书库/4110460303/ [索取号:TM380.5/1] | 在馆 | |
2 | 1534852 | 215348522 | 理科库/3110810404/ [索取号:TM380.5/1] | 在馆 | |
3 | 1534853 | 215348531 | 理科库/3110810404/ [索取号:TM380.5/1] | 在馆 |