书目信息 |
题名: |
金刚石膜制备与应用
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作者: | 吕反修 主编 | |
分册: | 上下卷 | |
出版信息: | 北京 科学出版社 2015 |
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页数: | 2册 (1471页), [8] 页图版 | |
开本: | 24cm | |
丛书名: | 纳米科学与技术 | |
单 册: | ||
中图分类: | TB43 | |
科图分类: | ||
主题词: | 类金刚石膜--Lei jin gang shi mo--研究 | |
电子资源: | ||
ISBN: | 978-7-03-042826-4 |
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330 | @a本书比较全面、系统、深入地论述了化学气相沉积(CVD)金刚石膜的制备、组织结构和性能表征,金刚石膜化学气相沉积理论,以及在电学(电子学)、热学、光学、声学、电化学、力学等领域的应用,在高超声速、外太空、核和极端摩擦磨损环境下众多高新技术应用研究进展和市场前景。本书分六篇、共29章,第一篇:金刚石膜的制备;第二篇:金刚石膜组织结构和性能表征;第三篇:金刚石膜化学气相沉积理论;第四篇:金刚石膜的应用;第五篇:纳米金刚石膜制备与应用;第六篇:金刚石相关材料的制备与应用。 | |
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金刚石膜制备与应用.上下卷/吕反修主编.-北京:科学出版社,2015 |
2册 (1471页), [8] 页图版:图 (部分彩图);24cm.-(纳米科学与技术;17-18) |
国家出版基金项目 |
ISBN 978-7-03-042826-4:CNY12000.00 (全80册) |
本书比较全面、系统、深入地论述了化学气相沉积(CVD)金刚石膜的制备、组织结构和性能表征,金刚石膜化学气相沉积理论,以及在电学(电子学)、热学、光学、声学、电化学、力学等领域的应用,在高超声速、外太空、核和极端摩擦磨损环境下众多高新技术应用研究进展和市场前景。本书分六篇、共29章,第一篇:金刚石膜的制备;第二篇:金刚石膜组织结构和性能表征;第三篇:金刚石膜化学气相沉积理论;第四篇:金刚石膜的应用;第五篇:纳米金刚石膜制备与应用;第六篇:金刚石相关材料的制备与应用。 |
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正题名:金刚石膜制备与应用
索取号:TB43/5A
 
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序号 | 登录号 | 条形码 | 馆藏地/架位号 | 状态 | 备注 |
1 | 1655768 | 216557688 | 样本书库/4110430105/ [索取号:TB43/5A] | 在馆 | |
2 | 1655780 | 216557802 | 样本书库/4110430105/ [索取号:TB43/5A] | 在馆 |