书目信息 |
题名: |
电子电镀铜柱及其酸洗缓蚀剂技术
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作者: | 陶志华 著 | |
分册: | ||
出版信息: | 北京 科学出版社 2019 |
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页数: | 173页 | |
开本: | 24cm | |
丛书名: | 信息材料与应用技术丛书 | |
单 册: | ||
中图分类: | TG146.1 , TG174.42 | |
科图分类: | ||
主题词: | 电子技术--应用--电镀铜 , 铜--金属表面保护--缓蚀剂 | |
电子资源: | ||
ISBN: | 978-7-03-060972-4 |
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330 | @a本书以电沉积金属基础知识与理论为基础,内容包括电镀前处理、电镀金属及合金、特种镀覆、电镀污染防治等,内容涵盖了电结晶理论、高速镀、化学镀、脉冲镀和复合镀等,重点针对电镀层均匀性问题、电子封装互连材料的非等向性电镀等,系统地介绍了国内外常用及最新前沿电镀填盲孔及填通孔制备原理、技术特点与工艺等,尽可能汇集具有一定先进性及实用性的电子电镀互连技术。例。 | |
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电子电镀铜柱及其酸洗缓蚀剂技术/陶志华著.-北京:科学出版社,2019 |
173页:图;24cm.-(信息材料与应用技术丛书) |
使用对象:电镀铜相关技术人员 |
ISBN 978-7-03-060972-4:CNY99.00 |
本书以电沉积金属基础知识与理论为基础,内容包括电镀前处理、电镀金属及合金、特种镀覆、电镀污染防治等,内容涵盖了电结晶理论、高速镀、化学镀、脉冲镀和复合镀等,重点针对电镀层均匀性问题、电子封装互连材料的非等向性电镀等,系统地介绍了国内外常用及最新前沿电镀填盲孔及填通孔制备原理、技术特点与工艺等,尽可能汇集具有一定先进性及实用性的电子电镀互连技术。例。 |
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正题名:电子电镀铜柱及其酸洗缓蚀剂技术
索取号:TG146.1/1
 
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序号 | 登录号 | 条形码 | 馆藏地/架位号 | 状态 | 备注 |
1 | 1832730 | 218327308 | 样本书库/4110430503/ [索取号:TG146.1/1] | 在馆 | |
2 | 1832731 | 218327317 | 理科库/3110920103/ [索取号:TG146.1/1] | 在馆 | |
3 | 1832732 | 218327326 | 理科库/3110920103/ [索取号:TG146.1/1] | 在馆 |