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题名:
铜及氧化亚铜薄膜的电沉积制备及其性能研究
    
 
作者: 孙芳 著
分册:  
出版信息: 北京   冶金工业出版社  2019
页数: 156页
开本: 24cm
丛书名:
单 册:
中图分类: TF8 , O614.121 , O614.121
科图分类:
主题词: 铜--金属薄膜--电沉积--制备--研究 , 氧化铜--金属薄膜--电沉积--制备--研究 , 无机化学
电子资源:
ISBN: 978-7-5024-7990-9
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    铜及氧化亚铜薄膜的电沉积制备及其性能研究/孙芳著.-北京:冶金工业出版社,2019
    156页:图;24cm
    
    
    ISBN 978-7-5024-7990-9:CNY43.00
    本书主要介绍了采用电沉积方法制备出具有多种形貌的铜、氧化亚铜薄膜的方法,并通过简单的热处理方法将氧化亚铜薄膜转化为氧化铜薄膜,探索自制的薄膜在光学及电催化氧化葡萄糖方面的性能应用。
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正题名:铜及氧化亚铜薄膜的电沉积制备及其性能研究     索取号:O614.121/1         预约/预借

序号 登录号 条形码 馆藏地/架位号 状态 备注
1 1858669   218586698   样本书库/ [索取号:O614.121/1] 在馆    
2 1858670   218586705   理科库/ [索取号:O614.121/1] 在馆    
3 1858671   218586714   理科库/ [索取号:O614.121/1] 在馆    
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