书目信息 |
题名: |
晶体生长原理与技术
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作者: | 介万奇 编著 | |
分册: | ||
出版信息: | 北京 科学出版社 2019 |
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页数: | 13,779页 | |
开本: | 26cm | |
丛书名: | ||
单 册: | ||
中图分类: | O78 | |
科图分类: | ||
主题词: | 晶体生长 | |
电子资源: | ||
ISBN: | 978-7-03-058998-9 |
000 | 01451nam0 2200277 450 | |
001 | 1951709828 | |
005 | 20191018201749.84 | |
010 | @a978-7-03-058998-9@b精装@dCNY360.00 | |
049 | @aA340000AHL@bUCS01009314875@c1900628592 | |
100 | @a20181218d2019 em y0chiy0110 ea | |
101 | 0 | @achi |
102 | @aCN@b110000 | |
105 | @aa z 000yy | |
200 | 1 | @a晶体生长原理与技术@9jing ti sheng zhang yuan li yu ji shu@b专著@dPrinciple and technology of crystal growth@f介万奇编著@zeng |
205 | @a2版 | |
210 | @a北京@c科学出版社@d2019 | |
215 | @a13,779页@c图@d26cm | |
330 | @a本书分4篇探讨晶体生长的原理与技术。第一篇为晶体生长的基本原理,分5章对晶体生长的热力学原理、动力学原理、界面过程、生长形态及晶体生长初期的形核相关原理进行论述。第二篇为晶体生长的技术基础,分3章进行晶体生长过程的涉及传输行为(传质、传热、对流)、化学基础问题(材料的提纯与合成问题)以及物理基础(电、磁、力的作用原理)的综合分析。第三篇为晶体生长技术,分4章分别对以Bridgman法为主的熔体法晶体生长、以Czochralski方法为主的熔体法晶体生长、溶液法晶体生长以及气相晶体生长技术与最新发展进行介绍。第四篇分2章分别对晶体生长过程中缺陷的形成与控制和晶体的结构与性能表征方法进行论述。 | |
510 | 1 | @aPrinciple and technology of crystal growth@zeng |
606 | 0 | @a晶体生长 |
690 | @aO78@v5 | |
701 | 0 |
@a介万奇@9jie |
801 | 0 | @aCN@bahlib@c20181218 |
801 | 2 | @aCN@bOLCC @c20190625 |
801 | 2 | @aCN@bA340000AHL@c20190212 |
905 | @a241250@dO78@e5=5 | |
晶体生长原理与技术=Principle and technology of crystal growth/介万奇编著.-2版.-北京:科学出版社,2019 |
13,779页:图;26cm |
ISBN 978-7-03-058998-9(精装):CNY360.00 |
本书分4篇探讨晶体生长的原理与技术。第一篇为晶体生长的基本原理,分5章对晶体生长的热力学原理、动力学原理、界面过程、生长形态及晶体生长初期的形核相关原理进行论述。第二篇为晶体生长的技术基础,分3章进行晶体生长过程的涉及传输行为(传质、传热、对流)、化学基础问题(材料的提纯与合成问题)以及物理基础(电、磁、力的作用原理)的综合分析。第三篇为晶体生长技术,分4章分别对以Bridgman法为主的熔体法晶体生长、以Czochralski方法为主的熔体法晶体生长、溶液法晶体生长以及气相晶体生长技术与最新发展进行介绍。第四篇分2章分别对晶体生长过程中缺陷的形成与控制和晶体的结构与性能表征方法进行论述。 |
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正题名:晶体生长原理与技术
索取号:O78/5=5
 
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