书目信息 |
| 题名： |
磁控溅射制备氮化铜薄膜的结构与性能
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| 作者： | 肖剑荣 著 | |
| 分册： | ||
| 出版信息： | 北京 中国水利水电出版社 2019.04 |
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| 页数： | 173页 | |
| 开本： | 24cm | |
| 丛书名： | ||
| 单 册： | ||
| 中图分类： | TF811 | |
| 科图分类： | ||
| 主题词： | 铜--金属薄膜--氮化处理--结构--研究 , 铜--金属薄膜--性能--研究 | |
| 电子资源： | ||
| ISBN： | 978-7-5170-7439-7 | |
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| 磁控溅射制备氮化铜薄膜的结构与性能/肖剑荣著.-北京：中国水利水电出版社，2019.04 |
| 173页：图；24cm |
| 使用对象：本书可供相关工程技术人员参考使用 |
| ISBN 978-7-5170-7439-7：CNY57.00 |
| 磁控溅射是一种通用、成熟的薄膜制备工艺技术，其制备工艺可调剂参数较多，通过精细控制能够实现对薄膜结构的有效调控。本书研究了薄膜的工艺参数、薄膜结构与性能等之间的内在关系，探讨了薄膜的电子输运、光学带隙、热稳定性的有关物理量的变化机制。 |
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正题名：磁控溅射制备氮化铜薄膜的结构与性能
索取号：TF811/3
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| 1 | 1863817 | 218638179 | 样本书库/4110430502/ [索取号:TF811/3] | 在馆 | |
| 2 | 1863818 | 218638188 | 理科库/ [索取号:TF811/3] | 在馆 | |
| 3 | 1863819 | 218638197 | 理科库/ [索取号:TF811/3] | 在馆 |