书目信息 |
题名: |
微电子工艺基础
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作者: | 李薇薇 , 王胜利 , 刘玉岭 编著 | |
分册: | ||
出版信息: | 北京 化学工业出版社 2007 |
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页数: | 257页 | |
开本: | 26cm | |
丛书名: | ||
单 册: | ||
中图分类: | TN405 | |
科图分类: | ||
主题词: | 微电子技术--wei dian zi ji shu--生产工艺 | |
电子资源: | ||
ISBN: | 978-7-5025-9520-3 |
000 | 01114nam0 2200253 450 | |
001 | 118732 | |
005 | 20091103101515.65 | |
010 | @a978-7-5025-9520-3@dCNY29.80 | |
100 | @a20070712d2007 em y0chiy0121 ea | |
101 | 0 | @achi |
102 | @aCN@b110000 | |
105 | @aa a 000yy | |
200 | 1 | @a微电子工艺基础@9wei dian zi gong yi ji chu@f李薇薇, 王胜利, 刘玉岭编著@9li wei wei,wang sheng li,liu yu ling bian zhu |
210 | @a北京@c化学工业出版社@d2007 | |
215 | @a257页@c图@d26cm | |
320 | @a有书目 | |
330 | @a为了使相关读者更深入了解掌握微电子工艺技术的原理,本书前部分主要介绍了集成电路制备工艺中有关的物理、化学知识、第4章至第10章是全书重点,介绍了工艺过程、工艺设备以及IC制备中的新技术、新方法。全书共分10章,主要内容涉及半导体硅材料及化合物的化学性质,高纯水的制备,清洗技术,氧化、扩散、刻蚀、制版、外延、金属化处理、电子封装等主要工艺的原理等。 | |
606 | 0 | @a微电子技术@9wei dian zi ji shu@x生产工艺 |
690 | @aTN405@v4 | |
701 | 0 | @a李薇薇@9li wei wei@4编著 |
701 | 0 | @a王胜利@9wang sheng li@4编著 |
701 | 0 | @a刘玉岭@9liu yu ling@4编著 |
801 | 0 | @aCN@bTYGS@c20091103 |
905 | @aSQSY@dTN405@e1 | |
微电子工艺基础/李薇薇, 王胜利, 刘玉岭编著.-北京:化学工业出版社,2007 |
257页:图;26cm |
ISBN 978-7-5025-9520-3:CNY29.80 |
为了使相关读者更深入了解掌握微电子工艺技术的原理,本书前部分主要介绍了集成电路制备工艺中有关的物理、化学知识、第4章至第10章是全书重点,介绍了工艺过程、工艺设备以及IC制备中的新技术、新方法。全书共分10章,主要内容涉及半导体硅材料及化合物的化学性质,高纯水的制备,清洗技术,氧化、扩散、刻蚀、制版、外延、金属化处理、电子封装等主要工艺的原理等。 |
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正题名:微电子工艺基础
索取号:TN405/1
 
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序号 | 登录号 | 条形码 | 馆藏地/架位号 | 状态 | 备注 |
1 | 0818204 | 208182045 | 样本书库/4110480303/ [索取号:TN405/1] | 在馆 | |
2 | 0818205 | 208182054 | 理科库/3111370103/ [索取号:TN405/1] | 在馆 | |
3 | 0818206 | 208182063 | 理科库/3111370103/ [索取号:TN405/1] | 在馆 | |
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5 | 0818208 | 208182081 | 理科库/ [索取号:TN405/1] | 在馆 |