书目信息 |
题名: |
现代集成电路制造技术原理与实践
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作者: | 李惠军 编著 | |
分册: | ||
出版信息: | 北京 电子工业出版社 2009.05 |
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页数: | 13,435页 | |
开本: | 27cm | |
丛书名: | ||
单 册: | ||
中图分类: | TN405 | |
科图分类: | ||
主题词: | 集成电路工艺--高等教育--教材 , 集成电路工艺 | |
电子资源: | ||
ISBN: | 978-7-121-07753-1 |
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现代集成电路制造技术原理与实践/李惠军编著.-北京:电子工业出版社,2009.05 |
13,435页:图;27cm |
普通高等教育“十一五”国家级规划教材 电子信息与电气学科规划教材·电子科学与技术专业 |
ISBN 978-7-121-07753-1:CNY49.00 |
本书共18章,主要内容包括:硅材料及衬底制备、外延生长工艺原理、氧化介质薄膜生长、半导体的高温掺杂、离子注入低温掺杂、薄膜汽相淀积工艺、图形光刻工艺原理、掩模制备工艺原理、集成电路工艺仿真、集成结构测试图形等。 |
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正题名:现代集成电路制造技术原理与实践
索取号:TN405/3
 
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5 | 837537 | 208375373 | 理科库/3111370104/ [索取号:TN405/3] | 在馆 |