书目信息 |
题名: |
集成电路制造技术教程
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作者: | 李惠军 编著 | |
分册: | ||
出版信息: | 北京 清华大学出版社 2014 |
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页数: | 315页 | |
开本: | 26cm | |
丛书名: | ||
单 册: | ||
中图分类: | TN405 | |
科图分类: | ||
主题词: | 集成电路工艺--教材 | |
电子资源: | ||
ISBN: | 978-7-302-37032-1 |
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集成电路制造技术教程=Manufacture technology course of integrated circuit/李惠军编著.-北京:清华大学出版社,2014 |
315页:图;26cm |
ISBN 978-7-302-37032-1:CNY39.00 |
本书共分为15章。前9章以常规平面工艺为主要教学内容,包括:集成制造技术基础;硅材料及衬底制备;外延生长工艺原理;氧化介质薄膜生长;半导体的高温掺杂;离子注入低温掺杂;薄膜气相淀积工艺;图形光刻工艺原理等。后6章包括:超大规模集成工艺;集成结构测试图形;电路管芯键合封装等。 |
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正题名:集成电路制造技术教程
索取号:TN405/4
 
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