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书目信息

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题名:
纳米集成电路制造工艺
    
 
作者: 张汝京 编著
分册:  
出版信息: 北京   清华大学出版社  2014
页数: 13,433页
开本: 26cm
丛书名:
单 册:
中图分类: TN405
科图分类:
主题词: 纳米材料--集成电路工艺
电子资源:
ISBN: 978-7-302-36027-8
000 00928nam0 2200229 450
001 1675657921
005 20161102083938.17
010    @a978-7-302-36027-8@dCNY69.00
100    @a20161027d2014 em y0chiy50 ea
101 0  @achi
102    @aCN@b110000
105    @aa z 000yy
200 1  @a纳米集成电路制造工艺@9na mi ji cheng dian lu zhi zao gong yi@dNanoscale integrated circuits - the manufacturing process@f张汝京等编著@zeng
210    @a北京@c清华大学出版社@d2014
215    @a13,433页@c图@d26cm
330    @a本书共分19章,涵盖先进集成电路工艺的发展史,集成电路制造流程、介电薄膜、金属化、光刻、刻蚀、表面清洁与湿法刻蚀、掺杂、化学机械平坦化,器件参数与工艺相关性等项目和课题。
510 1  @aNanoscale integrated circuits - the manufacturing process@zeng
606 0  @a纳米材料@x集成电路工艺
690    @aTN405@v5
701  0 @a张汝京@9zhang ru jing@4编著
801  0 @aCN@b郑州日成@c20161027
905    @aZUCC@dTN405@e5
    
    纳米集成电路制造工艺=Nanoscale integrated circuits - the manufacturing process/张汝京等编著.-北京:清华大学出版社,2014
    13,433页:图;26cm
    
    
    ISBN 978-7-302-36027-8:CNY69.00
    本书共分19章,涵盖先进集成电路工艺的发展史,集成电路制造流程、介电薄膜、金属化、光刻、刻蚀、表面清洁与湿法刻蚀、掺杂、化学机械平坦化,器件参数与工艺相关性等项目和课题。
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正题名:纳米集成电路制造工艺     索取号:TN405/5         预约/预借

序号 登录号 条形码 馆藏地/架位号 状态 备注
1 1667838   216678389   样本书库/4110480303/ [索取号:TN405/5] 在馆    
2 1667839   216678398   理科库/3111370104/ [索取号:TN405/5] 在馆    
3 1667840   216678405   理科库/3111370104/ [索取号:TN405/5] 在馆    
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