书目信息 |
题名: |
纳米集成电路制造工艺
|
|
作者: | 张汝京 编著 | |
分册: | ||
出版信息: | 北京 清华大学出版社 2014 |
|
页数: | 13,433页 | |
开本: | 26cm | |
丛书名: | ||
单 册: | ||
中图分类: | TN405 | |
科图分类: | ||
主题词: | 纳米材料--集成电路工艺 | |
电子资源: | ||
ISBN: | 978-7-302-36027-8 |
000 | 00928nam0 2200229 450 | |
001 | 1675657921 | |
005 | 20161102083938.17 | |
010 | @a978-7-302-36027-8@dCNY69.00 | |
100 | @a20161027d2014 em y0chiy50 ea | |
101 | 0 | @achi |
102 | @aCN@b110000 | |
105 | @aa z 000yy | |
200 | 1 | @a纳米集成电路制造工艺@9na mi ji cheng dian lu zhi zao gong yi@dNanoscale integrated circuits - the manufacturing process@f张汝京等编著@zeng |
210 | @a北京@c清华大学出版社@d2014 | |
215 | @a13,433页@c图@d26cm | |
330 | @a本书共分19章,涵盖先进集成电路工艺的发展史,集成电路制造流程、介电薄膜、金属化、光刻、刻蚀、表面清洁与湿法刻蚀、掺杂、化学机械平坦化,器件参数与工艺相关性等项目和课题。 | |
510 | 1 | @aNanoscale integrated circuits - the manufacturing process@zeng |
606 | 0 | @a纳米材料@x集成电路工艺 |
690 | @aTN405@v5 | |
701 | 0 | @a张汝京@9zhang ru jing@4编著 |
801 | 0 | @aCN@b郑州日成@c20161027 |
905 | @aZUCC@dTN405@e5 | |
纳米集成电路制造工艺=Nanoscale integrated circuits - the manufacturing process/张汝京等编著.-北京:清华大学出版社,2014 |
13,433页:图;26cm |
ISBN 978-7-302-36027-8:CNY69.00 |
本书共分19章,涵盖先进集成电路工艺的发展史,集成电路制造流程、介电薄膜、金属化、光刻、刻蚀、表面清洁与湿法刻蚀、掺杂、化学机械平坦化,器件参数与工艺相关性等项目和课题。 |
● |
相关链接 |
正题名:纳米集成电路制造工艺
索取号:TN405/5
 
预约/预借
序号 | 登录号 | 条形码 | 馆藏地/架位号 | 状态 | 备注 |
1 | 1667838 | 216678389 | 样本书库/4110480303/ [索取号:TN405/5] | 在馆 | |
2 | 1667839 | 216678398 | 理科库/3111370104/ [索取号:TN405/5] | 在馆 | |
3 | 1667840 | 216678405 | 理科库/3111370104/ [索取号:TN405/5] | 在馆 |