书目信息 |
| 题名： |
薄膜技术与薄膜材料
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| 作者： | 石玉龙 ， 闫凤英 编著 | |
| 分册： | ||
| 出版信息： | 北京 化学工业出版社 2015 |
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| 页数： | 242页 | |
| 开本： | 21cm | |
| 丛书名： | ||
| 单 册： | ||
| 中图分类： | TB43 ， TB383 | |
| 科图分类： | ||
| 主题词： | 薄膜技术 , 薄膜--工程材料 | |
| 电子资源： | ||
| ISBN： | 978-7-122-22618-1 | |
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| 330 | @a本书是笔者根据多年从事材料表面薄膜制备技术的科研和教学经验编写而成，共4章，分别阐述了材料表面防护装饰膜层的物理气相沉积技术(包括真空蒸发镀膜、溅射镀膜、离子镀镀膜)，化学气相沉积技术(包括简单的CVD相关理论、设备装置、CVD种类等)，硬膜及超硬膜的制备技术(金刚石膜、类金刚石膜、立方氮化硼膜、CNx膜及氮化物、碳化物、氧化物薄膜及复合薄膜等)，以及利用化学、电化学反应在材料表面制备膜层的技术(包括化学镀、化学氧化、钝化、磷化，电镀、阳极氧化、微弧氧化等内容)。 | |
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| 薄膜技术与薄膜材料/石玉龙，闫凤英编著.-北京：化学工业出版社，2015 |
| 242页：图；21cm |
| ISBN 978-7-122-22618-1：CNY30.00 |
| 本书是笔者根据多年从事材料表面薄膜制备技术的科研和教学经验编写而成，共4章，分别阐述了材料表面防护装饰膜层的物理气相沉积技术(包括真空蒸发镀膜、溅射镀膜、离子镀镀膜)，化学气相沉积技术(包括简单的CVD相关理论、设备装置、CVD种类等)，硬膜及超硬膜的制备技术(金刚石膜、类金刚石膜、立方氮化硼膜、CNx膜及氮化物、碳化物、氧化物薄膜及复合薄膜等)，以及利用化学、电化学反应在材料表面制备膜层的技术(包括化学镀、化学氧化、钝化、磷化，电镀、阳极氧化、微弧氧化等内容)。 |
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正题名：薄膜技术与薄膜材料
索取号：TB43/8
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| 序号 | 登录号 | 条形码 | 馆藏地/架位号 | 状态 | 备注 |
| 1 | 1677805 | 216778057 | 样本书库/3110940202/ [索取号:TB43/8] | 在馆 | |
| 2 | 1677806 | 216778066 | 理科库/3110940202/ [索取号:TB43/8] | 在馆 | |
| 3 | 1677807 | 216778075 | 理科库/3110940202/ [索取号:TB43/8] | 在馆 |