书目信息 |
| 题名： |
等离子体蚀刻及其在大规模集成电路制造中的应用
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| 作者： | 张海洋 编著 | |
| 分册： | ||
| 出版信息： | 北京 清华大学出版社 2023 |
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| 页数： | 423页 | |
| 开本： | 26cm | |
| 丛书名： | 高端集成电路制造工艺丛书 | |
| 单 册： | ||
| 中图分类： | TN405.98 | |
| 科图分类： | ||
| 主题词： | 大规模集成电路--集成电路工艺--等离子刻蚀 | |
| 电子资源： | ||
| ISBN： | 978-7-302-61439-5 | |
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| 200 | 1 | @a等离子体蚀刻及其在大规模集成电路制造中的应用@9deng li zi ti shi ke ji qi zai da gui mo ji cheng dian lu zhi zao zhong de ying yong@b专著@f张海洋等编著 |
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| 210 | @a北京@c清华大学出版社@d2023 | |
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| 312 | @a封面英文题名：Plasma etching and its application in large scale integrated circuit manufacturing | |
| 330 | @a本书以低温等离子体蚀刻技术发展史开篇，随后是逻辑和存储器产品中等离子体蚀刻工艺的解读。此外，还详述了逻辑产品可靠性及良率与蚀刻工艺的内在联系，聚焦了特殊气体及特殊材料在等离子体蚀刻方面的潜在应用。最后是先进过程控制技术在等离子体蚀刻应用方面的重要性及展望，以及虚拟制造在集成电路发展中的应用。 | |
| 510 | 1 | @aPlasma etching and its application in large scale integrated circuit manufacturing@zeng |
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| 等离子体蚀刻及其在大规模集成电路制造中的应用/张海洋等编著.-2版.-北京：清华大学出版社，2023 |
| 423页：照片，图；26cm.-(高端集成电路制造工艺丛书) |
| “十三五”国家重点图书出版规划项目 |
| ISBN 978-7-302-61439-5：CNY149.00 |
| 本书以低温等离子体蚀刻技术发展史开篇，随后是逻辑和存储器产品中等离子体蚀刻工艺的解读。此外，还详述了逻辑产品可靠性及良率与蚀刻工艺的内在联系，聚焦了特殊气体及特殊材料在等离子体蚀刻方面的潜在应用。最后是先进过程控制技术在等离子体蚀刻应用方面的重要性及展望，以及虚拟制造在集成电路发展中的应用。 |
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| 相关链接 |
正题名：等离子体蚀刻及其在大规模集成电路制造中的应用
索取号：TN405.98/1=2
预约/预借
| 序号 | 登录号 | 条形码 | 馆藏地/架位号 | 状态 | 备注 |
| 1 | 1976417 | 219764173 | 样本书库/ [索取号:TN405.98/1=2] | 在馆 | |
| 2 | 1976418 | 219764182 | 理科库/ [索取号:TN405.98/1=2] | 在馆 | |
| 3 | 1976419 | 219764191 | 理科库/ [索取号:TN405.98/1=2] | 在馆 |